物竞编号 | 0L8T |
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分子式 | Si3N4 |
分子量 | 140.28 |
标签 | 四氮化三硅, Trisilicon tetranitride, 稳定剂, 精细陶瓷 |
CAS号:12033-89-5
MDL号:MFCD00011230
EINECS号:234-796-8
RTECS号:暂无
BRN号:暂无
PubChem号:24859489
1. 性状:灰色无定形粉末或晶体。
2. 密度(g/mL,25℃):3.18
3. 熔点(ºC):1900
主要的刺激性影响:
在皮肤上面:可能引起发炎;
在眼睛上面:可能引起发炎;
致敏作用:没有已知的敏化现象。
通常对水是不危害的,若无政府许可,勿将材料排入周围环境。
暂无
1.疏水参数计算参考值(XlogP):无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:4
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积13
7.重原子数量:7
8.表面电荷:0
9.复杂度:154
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:1
氮化硅有α、β两种晶型。α-Si3N4为颗粒结晶,β-Si3N4为针状结晶体,两者均属六方晶系,相对密度3.18,莫氏硬度9,热膨胀系数小、化学稳定性好,并具有优良的抗氧化性。在1900℃分解为氮和硅。氮化硅的强度很高且耐高温,即使1200℃的高温,其强度也不会改变,受热后不会熔成融体,一直到1900℃才会分解,耐化学腐蚀性能,能耐几乎所有的无机酸以及多种有机酸的腐蚀;氮化硅坚硬、热膨胀系数小,热震稳定性极好,绝缘性好,化学性质稳定,机械强度很高。难氧化,可做成熔融Al,Pb,Mg,Sn的坩埚。
常温密闭,阴凉通风干燥处。
1.主要有硅粉直接氮化法、二氧化硅还原法和氯化硅法。在大规模工业生产中,二氧化硅还原法更为人们所重视。
二氧化硅还原法二氧化硅粉末100份(重量份,下同),混入炭黑35份,尿素树脂100份,然后加入800份水、0.1份氧化铝(作反应核用)、1份草酸铵和0.3份非离子表面活性剂(作分散剂),进行强搅拌,并在搅拌中加入氨水调整Ph值为9.0。将此混合好的料浆喷雾干燥,所得干燥物在电炉中,在氮气氛中,在1480℃进行3 h氮化还原反应。再将还原反应产物于。720℃,在空气中进行脱炭处理,制得氮化硅粉末成品。
2.一般是用铁矾土,高岭土,黏土或其他含有Al2O3的物质添加一定量的碳,再在氮气气氛中加热到1300~1500℃,即得到产物Si3N4。其中使用的氮气一定要保证不含氧。
3.硅直接氮化法 将硅粉放在氮气、氨气或氢氮混合气中,加热至1200~1450℃直接氮化制得。在1200~1300℃反应可制得α相含量高的Si3N4原始粉末,烧结成陶瓷时强度高。
4.二氧化硅还原法 以二氧化硅、氮气和炭为原料制备氮化硅,反应式如下。
将硅石(或正硅酸乙酯水解制得的二氧化硅)与炭按一定比例充分混合,通入氮气加热至1400℃氮化24h。反应温度超过1550℃会生成SiC,因此需加入少量的Fe2O3来抑制SiC的生成,反应后用盐酸除去含铁的化合物,该方法制得的原料粉中α相含量高,但粉末中常有少量的SiO2杂质,这是有害的。
5.气相合成法 以四氯化硅和氨气为原料生产氮化硅,反应式如下。
将四氯化硅与无水氨气在0℃的己烷中反应生成亚氨基硅[Si(NH)2],氨基硅[Si(NH2)4]和氯化铵沉淀,在真空中加热除去氯化铵之后,在惰性气体中加热分解生成氮化硅。
也可用硅烷(SiH4)和氨气在1050~1350℃形成无定型Si3N4,在1450℃形成α相氮化硅。
2.用于绝缘材料、机械耐磨材料、热机材料、切削工具、高级耐火材料及抗腐蚀、耐磨损密封部件等。氮化硅陶瓷可做燃气轮机的燃烧室、机械密封环、输送铝液的电磁泵的管道及阀门、永久性模具、钢水分离环等。氮化硅摩擦系数小,用于高温轴承,其工作温度可达1200℃,比普通合金轴承的工作温度提高2.5倍,而工作速度是普通轴承的10倍。利用氮化硅陶瓷很好的电绝缘性和耐急冷急热性可以用来做电热塞,用它进行汽车点火可使发动机起动时间大大缩短,并能在寒冷天气迅速起动汽车。氮化硅陶瓷还有良好的透微波性能、介电性以及高温强度,作为导弹和飞机的雷达天线罩。
3.用作精细陶瓷烧结原料,耐腐蚀、耐磨、研磨原材料。危险运输编码:暂无
危险品标志:刺激
危险标识:R37
暂无
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